Prozessintegration und Bauelementearchitekturen 2021 /KursID:1009
- Letzter Beitrag vom 2020-07-17
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Schlüsselworte: CMOS architektur flash energie modell gate iso speicherzelle programmierung speicher source design geschwindigkeit spannung wahrscheinlichkeit technologien technologie inversion schaltungen kondensator

Einrichtung

Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente

Aufzeichnungsart

Vorlesungsreihe

Sprache

Deutsch

In dieser Vorlesung werden die physikalischen Anforderungen an integrierte Bauelemente und deren Umgebung definiert und Lösungsansätze anhand von Prozess-Sequenzen vorgestellt. Insbesondere soll dabei dargelegt werden, wie durch die stetige Verkleinerung der Strukturen neue prozesstechnische Verfahren zur Einhaltung der an die Technologie gestellten Forderungen notwendig werden.

In einer Einleitung werden kurz die Methoden der Herstellung (vgl. Technologie integrierter Schaltungen) vorgestellt. Die für Mikroprozessoren und Logikschaltungen wichtige CMOS-Technik wird im Anschluss daran ausführlich behandelt, gefolgt von der Bipolartechnik und der BiCMOS-Technik, bei der sowohl CMOS, als auch Bipolarschaltungen auf einem Chip integriert werden. Der nächste Vorlesungsabschnitt widmet sich den statischen und dynamischen Speichern, hier werden sowohl die wichtigsten Speicherarten (DRAM, SRAM, EPROM, Flash) vorgestellt, als auch die notwendigen Technologieschritte. Ein kurzes Kapitel befasst sich mit dem Aufbau von Leistungsbaulelementen. Die Problematik der Metallisierung sowie die Aufbau- und Verbindungstechnik, die für alle Bauelemente ähnlich ist, wird im Anschluss behandelt. Das letzte Kapitel beinhaltet Aspekte zur Ausbeute und Zuverlässigkeit von Bauelementen.

Zugehörige Einzelbeiträge

Folge
Titel
Lehrende(r)
Aktualisiert
Zugang
Dauer
Medien
1
Einleitung
PD Dr. Tobias Erlbacher
2020-04-24
IdM-Anmeldung / Passwort
01:09:21
2
Überblick über die Si-Technologie
PD Dr. Tobias Erlbacher
2020-05-08
IdM-Anmeldung / Passwort
01:32:31
3
CMOS-Bauelemente (Teil 1)
PD Dr. Tobias Erlbacher
2020-05-15
IdM-Anmeldung / Passwort
01:36:15
4
CMOS-Bauelemente (Teil 2)
PD Dr. Tobias Erlbacher
2020-05-22
IdM-Anmeldung / Passwort
01:31:56
5
CMOS-Technik (Teil 1)
PD Dr. Tobias Erlbacher
2020-05-29
IdM-Anmeldung / Passwort
01:32:12
6
CMOS-Technik (Teil 2)
PD Dr. Tobias Erlbacher
2020-06-05
IdM-Anmeldung / Passwort
01:21:42
7
Speicher
PD Dr. Tobias Erlbacher
2020-06-12
IdM-Anmeldung / Passwort
01:40:12
8
Bipolar und BiCMOS-Technik
PD Dr. Tobias Erlbacher
2020-06-19
IdM-Anmeldung / Passwort
01:26:34
9
Leistungsbauelemente
PD Dr. Tobias Erlbacher
2020-06-26
IdM-Anmeldung / Passwort
01:23:37
10
Mehrlagenmetallisierung
PD Dr. Tobias Erlbacher
2020-07-03
IdM-Anmeldung / Passwort
01:28:36
11
Aufbau- und Verbindungstechnik
PD Dr. Tobias Erlbacher
2020-07-10
IdM-Anmeldung / Passwort
01:28:17
12
Ausbeute und Zuverlässigkeit
PD Dr. Tobias Erlbacher
2020-07-17
IdM-Anmeldung / Passwort
01:29:10

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